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電子特氣

電子(zi)特氣(qi)用于半導體加工制(zhi)造(zao)，例如(ru)薄(bo)膜沉積(ji) - 包括(kuo)化(hua)學氣(qi)相沉積(ji)（CVD）和(he)物理氣(qi)相沉積(ji)（PVD）。我(wo)們提供高品質的電子(zi)氣(qi)體，應用于LED制(zhi)造(zao)，光伏太陽能，光纖(xian)和(he)微電子(zi)器件。

砷烷

砷烷

砷烷應用于泛半導體行業，作為外延硅的N型摻雜、擴散、離子注入、生長砷化鎵（GaAs）等化合物半導體的關鍵電子特氣。
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磷烷

磷烷

磷烷是一種易燃的劇毒氣體。用于半導體材料制備；襯底/外延、離子注入和摻雜；用于有機合成，制備磷的有機化合物等。
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硒化氫

硒化氫

硒化氫是一種可燃的有毒氣體。用于泛半導體行業；是制作紅外材料（硒化鋅等）的關鍵原料。
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鍺烷

鍺烷

鍺烷是一種可燃的有毒氣體。制取高純度鍺；應用于泛半導體摻雜及金屬有機化合物氣相沉積（MOCVD）鍍膜工藝；是太陽能電池的重要原料電子特氣。
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乙硼烷

乙硼烷

乙硼烷是一種可燃的有毒氣體。用作制取高純度硼；是半導體行業的摻雜、外延生長、擴散和離子注入等的關鍵特氣原料；應用于火箭和導彈的高能燃料、制藥、金屬焊接和有機合成等領域。
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甲硅烷

甲硅烷

甲硅烷是一種可燃的有毒氣體。硅產業鏈中的應用最廣泛關鍵產品之一， 用作多晶硅/單晶硅制備， 硅基薄膜沉積；廣泛應用于泛半導體行業。
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三氟化氮

三氟化氮

三氟化氮是一種可燃的有毒氣體。作為高溫室效應的氟化電子特氣， 廣泛應用于電子行業的干法刻蝕，晶圓表面清洗， 工藝腔室刻蝕清潔；是目前光伏/顯示/半導體制造中最重要的特氣之一。
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三氯化硼

三氯化硼

三氯化硼是一種可燃的有毒氣體。應用于泛半導體行業，是刻蝕、清洗和摻雜等工藝關鍵電子特氣；三氯化硼還廣泛用于有機合成和催化反應。
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四氯硅烷

四氯硅烷

制取高純硅、硅酸乙酯等；外延硅蝕刻氣；制備熔融石英纖維。
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