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金屬靶材


濺射靶材(cai)(cai)主要用于(yu)真空鍍膜(mo)設備中，通過物理(li)氣(qi)相沉積（PVD）在基(ji)片上涂覆薄膜(mo)層，以(yi)增加新的(de)(de)功能(neng)或創(chuang)建微(wei)小的(de)(de)連接，如(ru)薄膜(mo)晶體管（TFT）。用于(yu)制(zhi)備濺射靶材(cai)(cai)的(de)(de)材(cai)(cai)料種類繁多，主要取決于(yu)最(zui)終的(de)(de)用途，因(yin)此既可(ke)以(yi)由(you)(you)純(chun)金(jin)屬制(zhi)成，也可(ke)以(yi)由(you)(you)非(fei)常(chang)復(fu)雜(za)的(de)(de)合金(jin)材(cai)(cai)料制(zhi)成。我(wo)們可(ke)以(yi)為各行業客戶提供不(bu)同材(cai)(cai)料所(suo)制(zhi)成的(de)(de)平面靶材(cai)(cai)和旋轉(zhuan)靶材(cai)(cai)，我(wo)們的(de)(de)制(zhi)備技術先進(jin)，保證產品(pin)達到最(zui)佳的(de)(de)使用性能(neng)。

鋁靶 (Al)

鋁靶 (Al)

應用：半導體、TFT-LCD、裝飾等領域鍍膜

元素符號 : Al
純度 : 4N+
形狀 : 平面靶; 旋轉靶
外觀 : 銀色金屬
典型密度 : 2.67g/cm3
常規尺寸 : 平面靶: D500mm
旋轉靶: L4000mm
其它尺寸可定制
鋁鈧靶 (AlSc)

鋁鈧靶 (AlSc)

應用：半導體行業集成電路和微型電機器件鍍膜

元素符號 : AlSc
合金成分 : Al 9.6at%Sc; Al 20at%Sc; Al 30at%Sc
其它成分可定制
純度 : 3N5+
形狀 : 平面靶
外觀 : 銀白色、灰色，隨合金成分不同而變化
典型密度 : >2.92g/cm3
常規尺寸 : Φ332mm
其它尺寸可定制
鈹銅靶 (BeCu)

鈹銅靶 (BeCu)

應用：各種屏蔽室、集成電路屏蔽層和裝飾鍍膜

元素符號 : BeCu
純度 : 2N5+
形狀 : 平面靶、旋轉靶
外觀 : 金黃色金屬
典型密度 : 8.6g/cm3
常規尺寸 : 平面靶: 500x500x10mm
旋轉靶: L4000mm
其它尺寸可定制
摻碳鍺銻碲靶 (C-GST)

摻碳鍺銻碲靶 (C-GST)

應用：相變存儲材料

元素符號 : C-GST
純度 : 4N+
形狀 : 平面靶
外觀 : 灰色
典型密度 : 5.7g/cm3
常規尺寸 : Φ440mm
其它尺寸可定制
銅銦鎵靶 (CIG)

銅銦鎵靶 (CIG)

應用：銅銦鎵硒薄膜太陽能電池
銅銦鎵靶材通過引入硒源，用于制備銅銦鎵硒薄膜太陽能電池中的P-type銅銦鎵硒膜層。

元素符號 : CIG
合金成分 : Cu35.78wt% In49.95wt% Ga14.27wt%
其它成分可定制
純度 : 4N5+
形狀 : 平面靶；旋轉靶
外觀 : 灰色
典型密度 : 7.5g/cm3
常規尺寸 : 平面靶: 350×125mm
旋轉靶: L1300mm
其它尺寸可定制
鈷鉭鋯靶 (CoTaZr)

鈷鉭鋯靶 (CoTaZr)

應用：半導體集成電路和微電感器

元素符號 : CoTaZr
合金成分 : Co4.5Ta4Zr
其它成分可定制
純度 : 3N5+
形狀 : 平面靶
外觀 : 銀灰色
典型密度 : 8.68g/cm3
常規尺寸 : 方形: 600mm*130mm*12mm
圓形: Φ440mm
其它尺寸可定制
鉻靶 (Cr)

鉻靶 (Cr)

應用：半導體、低輻射玻璃、裝飾和功能性膜層等領域的真空鍍膜

元素符號 : Cr
純度 : 3N5+
形狀 : 平面靶; 旋轉靶
外觀 : 銀色金屬
典型密度 : 7.2g/cm3
常規尺寸 : 平面靶: 500x125mm
旋轉靶: L1500mm
其它尺寸可定制
鉻鈷靶 (CrCo)

鉻鈷靶 (CrCo)

應用：磁數據存儲

元素符號 : CrCo
合金成分 : Cr90at%Co
其他成分可定制
純度 : 3N5+
形狀 : 平面靶
外觀 : 灰色
典型密度 : >8.2g/cm3
常規尺寸 : Φ165mm
其它尺寸可定制
銅靶 (Cu)

銅靶 (Cu)

應用：觸摸屏、半導體、傳感器、電路器件和裝飾品等行業的器件鍍膜

元素符號 : Cu
純度 : 4N+
形狀 : 平面靶; 旋轉靶
外觀 : 紅銅色金屬
典型密度 : 8.57g/cm3
常規尺寸 : 平面靶: D500mm
旋轉靶: L4000mm
其它尺寸可定制
銅鎵靶 (CuGa)

銅鎵靶 (CuGa)

應用：銅銦鎵硒薄膜太陽能電池

元素符號 : CuGa
合金成分 : CuGa25, CuGa27, CuGa30
其它成分可定制
純度 : 4N+
形狀 : 平面靶；旋轉靶
外觀 : 金黃色或銀白色
典型密度 : >8.4g/cm3
常規尺寸 : 平面靶: Φ500x30mm
旋轉靶: L3000mm
其它尺寸可定制
銦靶 (In)

銦靶 (In)

應用：光伏、半導體、低輻射玻璃等領域鍍膜

元素符號 : In
純度 : 4N+
形狀 : 平面靶; 旋轉靶
外觀 : 銀白色金屬
典型密度 : ≥6.9g/cm3
常規尺寸 : 平面靶: 2400x500x30mm
旋轉靶: L3000mm
其它尺寸可定制
銦錫靶 (InSn)

銦錫靶 (InSn)

應用：光伏、低輻射玻璃和手機器件涂層

元素符號 : InSn
合金成分 : 90/10; 80/20 wt%
其它成分可定制
純度 : 4N+
形狀 : 平面靶；旋轉靶
外觀 : 銀白色
典型密度 : 7.26g/cm3
常規尺寸 : 平面靶: 2400x500x30mm
旋轉靶: L3000mm
其它尺寸可定制
鈮靶 (Nb)

鈮靶 (Nb)

應用：觸摸屏、半導體、低輻射玻璃和AR涂層等

元素符號 : Nb
純度 : 4N+
形狀 : 平面靶；旋轉靶
外觀 : 深灰色金屬
典型密度 : 8.57g/cm3
常規尺寸 : 平面靶: 2400x500x30mm
旋轉靶: L1500mm
其它尺寸可定制
鎳靶 (Ni)

鎳靶 (Ni)

應用：磁存儲介質、半導體、LED等行業器件鍍膜

元素符號 : Ni
純度 : 4N+
形狀 : 平面靶；旋轉靶
外觀 : 銀色金屬
典型密度 : 8.94g/cm3
常規尺寸 : 平面靶: 2400x500x30mm
旋轉靶: L3000mm
其它尺寸可定制
硅靶 (Si)

硅靶 (Si)

應用：光學、光電子、半導體、觸摸屏等領域器件鍍膜

元素符號 : Si
純度 : 4N+
形狀 : 平面靶；旋轉靶
外觀 : 深灰色，半金屬
典型密度 : 2.32g/cm3
常規尺寸 : 平面靶: 500x500x30mm
旋轉靶: L4000mm
其它尺寸可定制
硅鋁靶 (SiAl)

硅鋁靶 (SiAl)

應用：低輻射玻璃和AR涂層

元素符號 : SiAl
合金成分 : 98/2; 90/10; 25/75 wt%
其它成分可定制
純度 : 3N+
形狀 : 平面靶
外觀 : 銀白色
典型密度 : 隨合金成分而定
常規尺寸 : 平面靶: D500mm
旋轉靶: L4000mm
其它尺寸可定制
錫靶 (Sn)

錫靶 (Sn)

應用：低輻射玻璃和手機器件鍍膜

元素符號 : Sn
純度 : 4N+
形狀 : 平面靶；旋轉靶
外觀 : 銀色金屬
典型密度 : 7.28g/cm3
常規尺寸 : 平面靶: 2180x500x30mm
旋轉靶: L3000mm
其它尺寸可定制
鉭靶 (Ta)

鉭靶 (Ta)

應用：半導體、光學、磁性存儲介質以及耐磨、耐腐蝕器件等領域的鍍膜

元素符號 : Ta
純度 : 3N5+
形狀 : 平面靶；旋轉靶
外觀 : 深灰色金屬
典型密度 : 16.54g/cm3
常規尺寸 : 平面靶: 500x500x30mm
旋轉靶: L4000mm
其它尺寸可定制
鈦靶 (Ti)

鈦靶 (Ti)

應用：半導體、顯示、光伏、低輻射玻璃、耐磨和裝飾器件的鍍膜

元素符號 : Ti
純度 : 4N+
形狀 : 平面靶；旋轉靶
外觀 : 銀色金屬
典型密度 : 4.5g/cm3
常規尺寸 : 平面靶: 2000x500x30mm
旋轉靶: L4000mm
其它尺寸可定制
釩靶 (V)

釩靶 (V)

應用：紅外芯片

元素符號 : V
純度 : 4N+
形狀 : 平面靶; 旋轉靶
外觀 : 銀灰色金屬
典型密度 : 6.110 g/cm3
常規尺寸 : 尺寸和規格可定制
鎢鈦靶 (WTi)

鎢鈦靶 (WTi)

應用：光學、光電子學、半導體、LED等領域鍍膜

元素符號 : WTi
合金成分 : 90/10 wt% 70/30 wt%
其它成分可定制
純度 : 4N+
形狀 : 平面靶
外觀 : 銀灰色帶金屬光澤
典型密度 : 14.52g/cm3
常規尺寸 : 方形平面靶: L400mm
圓形平面靶: Φ440mm
其它尺寸可定制
鋯釔靶 (ZrY)

鋯釔靶 (ZrY)

應用：熱障涂層

元素符號 : ZrY
合金成分 : Y:10 wt%/15wt%/20wt%
其它成分可定制
純度 : 3N+
形狀 : 平面靶
外觀 : 銀灰色
典型密度 : 6.09g/cm3
常規尺寸 : 325mm*200mm*10mm
其它尺寸可根據客戶要求定制
銀靶 (Ag)

銀靶 (Ag)

應用：半導體、低輻射玻璃、光伏和光學等行業鍍膜

元素符號 : Ag
純度 : 4N+
形狀 : 平面靶；旋轉靶
外觀 : 銀色金屬
典型密度 : 10.5g/cm3
常規尺寸 : 平面靶: 2300×248mm
旋轉靶: L3000mm
其它尺寸可定制
金靶 (Au)

金靶 (Au)

應用：半導體、傳感器和數據存儲器件鍍膜

元素符號 : Au
純度 : 4N+
形狀 : 平面靶
外觀 : 金黃色
典型密度 : 19.32g/cm3
常規尺寸 : Φ332mm
其它尺寸可定制
鎳鉑靶 (NiPt)

鎳鉑靶 (NiPt)

應用：半導體行業中的二極管和超大規模集成電路鍍膜

元素符號 : NiPt
合金成分 : 95/5, 90/10, 85/15, 70/30, 40/60 wt%;
其它成分可定制
純度 : 4N+
形狀 : 平面靶；碗狀靶
外觀 : 銀白色
典型密度 : 隨合金成分不同而變化
常規尺寸 : 445x127
其它尺寸可定制
鉑靶 (Pt)

鉑靶 (Pt)

應用：半導體、光學、珠寶和裝飾品鍍膜

元素符號 : Pt
純度 : 3N5+
形狀 : 平面靶
外觀 : 灰色，微泛黃
典型密度 : 21.45g/cm3(100Pt)
常規尺寸 : Φ165 mm
其它尺寸可定制
釕靶 (Ru)

釕靶 (Ru)

應用：半導體和數據存儲層鍍膜

元素符號 : Ru
純度 : 3N+
形狀 : 平面靶
外觀 : 銀灰色金屬
典型密度 : 12.33g/cm3(100Ru)
常規尺寸 : Φ165 mm
其它尺寸可定制

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