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真空鍍膜設備


我(wo)們(men)致力(li)于薄膜(mo)(mo)技術開(kai)發(fa)、真空工藝(yi)設備研發(fa)、濺射靶材(cai)制造和相關(guan)服務(wu),包(bao)括鍍膜(mo)(mo)打樣、膜(mo)(mo)系開(kai)發(fa)等。主要的(de)業務(wu)為設計和組裝薄膜(mo)(mo)沉積設備,我(wo)們(men)建設的(de)先進裝備制造線包(bao)括枚葉式設備(FHR.Star系列(lie))、?式鍍膜(mo)(mo)設備(FHR.Boxx系列(lie))、?鍍膜(mo)(mo)效率(lv)的(de)連續(xu)式鍍膜(mo)(mo)設備(FHR.Line系列(lie))、以(yi)及?型的(de)創(chuang)新式卷對卷鍍膜(mo)(mo)設備(FHR.Roll系列(lie))。應用(yong)于薄膜(mo)(mo)太陽(yang)能(neng)電池、新型顯示、汽(qi)車、MEMS傳感器、光學、濾(lv)波(bo)器和裝飾等領域。


我(wo)們(men)可(ke)以為您(nin)的真空鍍膜設備提供技(ji)術(shu)(shu)支持、技(ji)術(shu)(shu)培(pei)訓(xun)、預防(fang)性(xing)維(wei)護、備件(jian)/磨(mo)損(sun)件(jian)、資格認證、技(ji)術(shu)(shu)評(ping)估,例(li)如幫您(nin)判斷現有系統的運作狀況。我(wo)們(men)還可(ke)以為您(nin)的機器(甚(shen)至(zhi)是(shi)第(di)三(san)方(fang)系統)提供搬(ban)遷(qian)、升級和(he)現代(dai)化(改造(zao))服(fu)務。

枚葉式設備(FHR.Star系列)

枚葉式設備(FHR.Star系列)

●應用于小規模、試生產或研發領域,適于硅片類基材表面沉積、去除或改性的工藝設備
●基于靈活的模塊化設計理念
●可整合多種技術工藝
●標準用于半導體硅片處理
鼓式鍍膜設備(FHR.Boxx系列)

鼓式鍍膜設備(FHR.Boxx系列)

●適于小批量生產的單腔室濺射設備
●適于三維基材以及面積最大200 x 200 mm2的平面基材
●用于多層膜組沉積的磁控濺射設備
●配置等離子刻蝕基片預處理工藝
高鍍膜效率的連續式鍍膜設備(FHR.Line系列)

高鍍膜效率的連續式鍍膜設備(FHR.Line系列)

●工業級生產設備、高產能試驗線或研發型設備
●單向或雙向(往復)基片傳輸方式
●支持正面和背面同時鍍膜
●可集成多種工藝技術
●可選立式或臥式設計
大型的創新式卷對卷鍍膜設備(FHR.Roll系列)

大型的創新式卷對卷鍍膜設備(FHR.Roll系列)

●研發和生產領域柔性電子和薄膜太陽能電池膜層制備
●配備邊緣控制功能的精確機械卷繞裝置
●制備柔性薄膜太陽能電池、隔熱膜和印刷電路版
●免觸式設計避免與正面膜層直接接觸
●適于便攜、輕便及柔性應用領域
FHR.Star-EOSS?精密光學

FHR.Star-EOSS®精密光學

●適于高精密光學膜層沉積的工業級磁控濺射設備
●基材表面絕佳的膜厚均勻性
●向上濺射型構造保障膜層低雜質含量
●應用旋轉靶材延長靶材服役壽命
原子層沉積設備

原子層沉積設備

●ALD –?原子層沉積
●循環CVD工藝
●精確控制高保形膜層的膜厚
●適于半導體電子和光學領域

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