
濺射靶材(cai)(cai)(cai)主(zhu)要用(yong)(yong)于真(zhen)空(kong)鍍膜(mo)設備(bei)中,通過物理氣(qi)相沉積(PVD)在(zai)基片上涂覆薄膜(mo)層,以(yi)增(zeng)加新的(de)(de)功能或創建微(wei)小(xiao)的(de)(de)連接,如薄膜(mo)晶體管(TFT)。用(yong)(yong)于制(zhi)備(bei)濺射靶材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)材(cai)(cai)(cai)料種類繁多(duo),主(zhu)要取(qu)決于最終的(de)(de)用(yong)(yong)途,因(yin)此(ci)既可(ke)以(yi)由純金(jin)屬制(zhi)成(cheng),也可(ke)以(yi)由非常(chang)復雜的(de)(de)合金(jin)材(cai)(cai)(cai)料制(zhi)成(cheng)。我(wo)們(men)可(ke)以(yi)為各行業(ye)客戶提(ti)供不同材(cai)(cai)(cai)料所制(zhi)成(cheng)的(de)(de)平(ping)面靶材(cai)(cai)(cai)和旋(xuan)轉靶材(cai)(cai)(cai),我(wo)們(men)的(de)(de)制(zhi)備(bei)技術(shu)先進,保(bao)證產(chan)品達到最佳的(de)(de)使用(yong)(yong)性能。
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