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鋯鉿產品

在現代材(cai)料(liao)科(ke)學與工(gong)業(ye)應用(yong)的(de)(de)前沿領域，鋯鉿(jia)產品(pin)系(xi)列正發揮(hui)著(zhu)舉(ju)足輕(qing)重的(de)(de)作用(yong)。這些產品(pin)以其(qi)卓越的(de)(de)屬性、廣泛的(de)(de)應用(yong)領域以及(ji)先進(jin)的(de)(de)技術，成為推動眾多行業(ye)進(jin)步(bu)的(de)(de)關鍵(jian)力(li)量。

電子級四氯化鉿（HfCl?）

應用：主要應用于半導體制造工藝中的原子層沉積（ALD）和化學氣相沉積（CVD）過程。

化學式：HfCl?
純度：99.95%
形狀：顆粒、粉末
外觀：白色
熔點：319℃
理論密度：3.46g/cm3

高純鉿（Hf）

應用：在航空航天領域，高純鉿被廣泛用于制造航空發動機的高溫部件，如燃燒室、渦輪葉片等。此外，在電子器件領域，高純鉿還可用于制造高性能的電子元器件，如高可靠性的電阻器、電容器等，為電子設備的小型化、高性能化提供支持。

化學式：Hf
純度：核級99.5%和電子級99.95%
形狀：金屬晶體
外觀：銀灰色
熔點：約2227℃
理論密度：13.31g/cm3

高純氧氯化鋯（ZrOCl?·8H?O）

應用：高純氧氯化鋯是制備高性能陶瓷材料的重要原料，廣泛應用于電子陶瓷、結構陶瓷、生物陶瓷等領域。此外，在催化劑領域，高純氧氯化鋯也可作為催化劑載體或活性組分，用于石油化工、有機合成等化學反應中，提高反應的選擇性和催化效率。

化學式：ZrOCl?·8H?O
純度：ZrO?≥35%
形狀：針狀晶體
外觀：白色
熔點：400℃
理論密度：1.91g/cm3

核級氫氧化鋯（Zr(OH)?）

應用：主要應用于核反應堆的堆芯結構材料、核燃料包殼材料和核廢料處理領域。

化學式：Zr(OH)?
純度：ZrO?≥76.5%，含水量≤5%
形狀：無毒、無味固體粉末
外觀：白色
熔點：550℃開始分解
理論密度：3.25g/cm3

核級氫氧化鉿（Hf(OH)?）

應用：在核工業中，核級氫氧化鉿主要用于制造核反應堆的控制棒驅動機構等關鍵部件。

化學式：Hf(OH)?
純度：Hf≥71%，含水量≤5%
形狀：無毒、無味固體粉末
外觀：白色
熔點：未知
理論密度：未知

核級氧化鋯（ZrO?）

應用：在核反應堆中，核級氧化鋯是制造堆芯結構部件和燃料包殼的理想材料。此外，在核廢料處理領域，核級氧化鋯也可用于制備固化核廢料的陶瓷材料。

化學式：ZrO?
純度：≥99%
形狀：無臭無味晶體
外觀：白色
熔點：2700℃
理論密度：5.85g/cm3

精四氯化鋯（ZrCl?）

應用：在鋯化合物的生產中，精四氯化鋯通過進一步的化學反應可以制備出多種鋯產品，如氧化鋯、氫氧化鋯、碳酸鋯等。在陶瓷行業，它可用于制備陶瓷色料和釉料。此外，在金屬表面處理領域，精四氯化鋯可用于制備金屬鋯涂層，提高金屬材料的耐腐蝕性和耐磨性。

化學式：ZrCl?
純度：Zr≥37.5%
形狀：結晶或粉末
外觀：白色有光澤
熔點：約437℃
理論密度：2.8g/cm3

氧化鉿（HfO?）

應用：在光學領域，氧化鉿可用于制造各種光學鏡片、濾光片、反射鏡等光學元件。在電子領域，氧化鉿可用于制造新型的場效應晶體管（FET）和動態隨機存取存儲器（DRAM）等電子器件。

化學式：HfO?
純度：核級98%和電子級99.95%
形狀：無臭無味晶體
外觀：白色
熔點：約2850℃
理論密度：9.68g/cm3

氧氯化鉿（HfOCl?·8H?O）

應用：在鉿化合物的制備過程中，氧氯化鉿可通過進一步的化學反應制備出高純鉿、氧化鉿等多種鉿產品。在表面處理領域，氧氯化鉿可用于金屬表面的處理工藝，廣泛應用于航空航天、汽車制造等行業。

化學式：HfOCl?·8H?O
純度：≥98.5%
形狀：針狀晶體
外觀：白色
熔點：未知
理論密度：2.2g/cm3